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Manufacturing method of nitride single crystal substrate and manufacturing method of nitride semiconductor light emitting device using the same

机译:氮化物单晶衬底的制造方法以及使用该氮化物单晶衬底的氮化物半导体发光器件的制造方法

摘要

A method for manufacturing a nitride based single crystal substrate and a method for manufacturing a nitride based light emitting diode using the same. The method for manufacturing the nitride based single crystal substrate includes forming a ZnO layer on a base substrate; forming a low-temperature nitride buffer layer on the ZnO layer using dimethyl hydragine (DMHy) as an N source; growing a nitride single crystal on the low-temperature nitride buffer layer; and separating the nitride single crystal from the base substrate by chemically eliminating the ZnO layer.
机译:用于制造基于氮化物的单晶衬底的方法以及使用该方法制造基于氮化物的发光二极管的方法。用于制造氮化物基单晶衬底的方法包括:在基础衬底上形成ZnO层;以及在衬底上形成ZnO层。使用二甲基肼(DMHy)作为N源在ZnO层上形成低温氮化物缓冲层;在低温氮化物缓冲层上生长氮化物单晶;通过化学去除ZnO层将氮化物单晶与基础衬底分离。

著录项

  • 公开/公告号JP5135501B2

    专利类型

  • 公开/公告日2013-02-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 三星電子株式会社;

    申请/专利号JP20080258418

  • 发明设计人 金 東 俊;

    申请日2008-10-03

  • 分类号C30B29/38;C30B25/02;H01L33/32;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 16:53:47

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