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Method of producing a thin film photovoltaic system, and a thin film photovoltaic system

机译:薄膜光伏系统的制造方法以及薄膜光伏系统

摘要

A method of producing a thin film photovoltaic system (2) having a two-dimensional metal chalcogenide compound semiconductor layer (7) as an absorber of sunlight and a metal layer (8) applied to the metal chalcogenide compound semiconductor layer is provided, wherein the metal chalcogenide compound semiconductor layer (7) and the metal layer (8) form a Schottky contact at their contact face. The method is characterized in that the metal chalcogenide compound semiconductor layer (7) is produced by applying a dispersion containing nanoscale particles having a diameter of about 3 nm to about 30 nm to a transparent substrate material (12), wherein the layer thickness of the metal chalcogenide compound semiconductor layer (7) applied to the substrate material ranges from about 150 nm to about 2500 nm.
机译:一种薄膜光伏系统( 2 )的制造方法,该系统具有二维金属硫属化物化合物半导体层( 7 )作为太阳光的吸收剂,金属层(<提供一种应用于金属硫属化物化合物半导体层的B> 8 ),其中,金属硫属化物化合物半导体层( 7 )和金属层( 8 )在他们的接触面形成肖特基接触。该方法的特征在于,通过将包含直径为约3nm至约30nm的纳米级颗粒的分散体施加到透明基板材料(上)来制造金属硫属化物化合物半导体层( 7 )。 > 12 ),其中施加到基板材料上的金属硫属化物化合物半导体层( 7 )的层厚度在约150 nm至约2500 nm的范围内。

著录项

  • 公开/公告号US8389318B2

    专利类型

  • 公开/公告日2013-03-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 DIETER OSTERMANN;

    申请/专利号US20100701061

  • 发明设计人 DIETER OSTERMANN;

    申请日2010-02-05

  • 分类号H01L21/00;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 16:42:54

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