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Gallium nitride-based III-V group compound semiconductor device and method of manufacturing the same

机译:氮化镓基III-V族化合物半导体器件及其制造方法

摘要

The present invention relates to a gallium nitride-based compound semiconductor device and a method of manufacturing the same. According to the present invention, there is provided a gallium nitride-based III-V group compound semiconductor device comprising a gallium nitride-based semiconductor layer and an ohmic electrode layer formed on the gallium nitride-based semiconductor layer. The ohmic electrode layer comprises a contact metal layer, a reflective metal layer, and a diffusion barrier layer.
机译:氮化镓类化合物半导体器件及其制造方法技术领域本发明涉及氮化镓类化合物半导体器件及其制造方法。根据本发明,提供了一种氮化镓基III-V族化合物半导体器件,其包括氮化镓基半导体层和形成在氮化镓基半导体层上的欧姆电极层。欧姆电极层包括接触金属层,反射金属层和扩散阻挡层。

著录项

  • 公开/公告号US8323999B2

    专利类型

  • 公开/公告日2012-12-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 JONG-LAM LEE;

    申请/专利号US20100952928

  • 发明设计人 JONG-LAM LEE;

    申请日2010-11-23

  • 分类号H01L21/283;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 16:42:46

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