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Plasma doping apparatus having shadow mask and method of plasm doping using the same

机译:具有荫罩的等离子体掺杂设备和使用该等离子体掺杂设备的等离子体掺杂方法

摘要

PURPOSE: A plasma doping apparatus having a shadow mask and a plasma doping method using the same are provided to facilitate a doping process by forming a shadow mask in a vertical direction. CONSTITUTION: Plasma is formed in a chamber(110). A supporter(120) supports a doping object. The supporter is connected to power source(130). The power source is applied to the doping object. A shadow mask is mounted on the surface of the doping object.
机译:目的:提供一种具有荫罩的等离子体掺杂设备和使用该等离子体掺杂设备的等离子体掺杂方法,以通过在垂直方向上形成荫罩来促进掺杂工艺。组成:在腔室(110)中形成等离子体。支撑物(120)支撑掺杂物。支架连接到电源(130)。电源施加到掺杂对象。荫罩安装在掺杂物的表面上。

著录项

  • 公开/公告号KR101251073B1

    专利类型

  • 公开/公告日2013-04-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号KR20110069133

  • 发明设计人 김남헌;서상일;

    申请日2011-07-12

  • 分类号H01L21/266;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 16:25:22

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