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Production manner, and vuiahuiru manner of multilayer interconnection substrate and multilayer interconnection substrate

机译:多层互连基板和多层互连基板的生产方式和方法

摘要

The multilayer wiring substrate includes: a first insulating layer comprising a first surface and a second surface opposite to the first surface; a second insulating layer ON the first surface of the first insulating layer; a first wiring pattern ON the second surface of the first insulating layer; a second wiring pattern ON a surface of the second insulating layer; a first via formed through the first insulating layer; a second via formed through the second insulating layer; and a third wiring pattern formed ON the first surface of the first insulating layer and embedded in the second insulating layer and the third wiring pattern having a hole therethrough. A diameter of the hole is smaller than each diameter of the first and second vias. The first via and the second via are connected to each other through a metal filled in the hole of the third wiring pattern.
机译:所述多层布线基板包括:第一绝缘层,其包括第一表面和与所述第一表面相对的第二表面;以及第二绝缘层。在第一绝缘层的第一表面上的第二绝缘层;在第一绝缘层的第二表面上的第一布线图案;在第二绝缘层的表面上的第二布线图案;穿过第一绝缘层形成的第一通孔;穿过第二绝缘层形成的第二通孔;第三布线图案形成在第一绝缘层的第一表面上并嵌入第二绝缘层中,并且第三布线图案具有从中穿过的孔。孔的直径小于第一和第二通孔的每个直径。第一通孔和第二通孔通过填充在第三布线图案的孔中的金属彼此连接。

著录项

  • 公开/公告号JP5360494B2

    专利类型

  • 公开/公告日2013-12-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 新光電気工業株式会社;

    申请/专利号JP20090292910

  • 发明设计人 山田 智子;

    申请日2009-12-24

  • 分类号H05K3/46;H05K3/00;H05K1/11;H05K3/40;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 16:10:39

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