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Fast switching hybrid IGBT device with trenched contacts

机译:具有沟槽触点的快速开关混合IGBT器件

摘要

A hybrid IGBT device having a VIGBT and LDMOS structures comprises at least a drain trenched contact filled with a conductive plug penetrating through an epitaxial layer, and extending into a substrate; a vertical drain region surrounding at least sidewalls of the drain trenched contact, extending from top surface of the epitaxial layer to the substrate, wherein the vertical drain region having a higher doping concentration than the epitaxial layer.
机译:具有VIGBT和LDMOS结构的混合IGBT器件,至少包括漏极沟槽接触,所述沟槽接触填充有穿过外延层并延伸到衬底中的导电塞。从外延层的顶表面延伸到衬底的至少围绕漏极沟槽接触的侧壁的垂直漏极区,其中垂直漏极区具有比外延层更高的掺杂浓度。

著录项

  • 公开/公告号US8598624B2

    专利类型

  • 公开/公告日2013-12-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 FU-YUAN HSIEH;

    申请/专利号US201213590555

  • 发明设计人 FU-YUAN HSIEH;

    申请日2012-08-21

  • 分类号H01L29/43;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 15:59:19

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