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transition metal dichalcogenides device formed by re-crystallization and transistor device using the same

机译:通过重结晶形成的过渡金属二卤化物器件和使用该器件的晶体管器件

摘要

The present invention relates to a transition metal dichalcogenides device formed by re-crystallization and a transistor device using the same. The present invention is to form single and poly crystals by performing a laser annealing process on amorphous transition metal dichalcogenides formed by a deposition process. For this, a semiconductor channel material is formed by recrystallizing the single and poly crystalline transition metal dichalcogenides by annealing the amorphous transition metal dichalcogenides obtained by the deposition process. [Reference numerals] (AA) After/before laser annealing Vgs_ld
机译:本发明涉及通过再结晶形成的过渡金属二卤化物器件和使用该器件的晶体管器件。本发明将通过对通过沉积工艺形成的非晶态过渡金属二卤化物进行激光退火工艺来形成单晶和多晶。为此,通过使通过沉积工艺获得的非晶态过渡金属二卤化物退火而使单晶和多晶过渡金属二卤化物再结晶来形成半导体沟道材料。 [附图标记](AA)激光退火之后/之前Vgs_ld

著录项

  • 公开/公告号KR101381169B1

    专利类型

  • 公开/公告日2014-04-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号KR20120104188

  • 发明设计人 김선국;

    申请日2012-09-19

  • 分类号H01L29/04;H01L29/12;H01L29/786;H01L31/09;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 15:41:13

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