首页> 外国专利> Fabrication of wafer bonded AlGaInP light emitting diode with textured n-type AlAs current spreading layer

Fabrication of wafer bonded AlGaInP light emitting diode with textured n-type AlAs current spreading layer

机译:具有织构化的n型AlAs电流扩散层的晶圆键合AlGaInP发光二极管的制造

摘要

The present invention relates to an wafer bonding-type AlGaInP-based light emitting diode and a method of manufacturing the same and, more specifically, to a formation of an n-type current spreading layer which is a thick texture with a low resistance and a larger band gap than an AlGaInP material on top of the n-type confinement layer in order to improve the luminous efficiency of wafer bonding type high-efficiency AlGaInP light emitting diode.
机译:晶片接合型的基于AlGaInP的发光二极管及其制造方法技术领域本发明涉及晶片接合型的基于AlGaInP的发光二极管及其制造方法,并且更具体地,涉及具有低电阻的厚质感的n型电流扩散层的形成。为了提高晶片键合型高效AlGaInP发光二极管的发光效率,在n型限制层的顶部具有比AlGaInP材料更大的带隙。

著录项

  • 公开/公告号KR101423908B1

    专利类型

  • 公开/公告日2014-07-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号KR20120143202

  • 发明设计人 이형주;김영진;

    申请日2012-12-11

  • 分类号H01L33/14;H01L33/22;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 15:40:25

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号