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A DIODE, A BIPOLAR JUNCTION TRANSISTOR(BJT) AND A METHOD OF FORMING ONE OR MORE DIODES IN A FIN FIELD-EFFECT TRANSISTOR(FinFET) DEVICE

机译:二极管,双极结型晶体管(BJT)以及在鳍式场效应晶体管(FinFET)器件中形成一个或多个二极管的方法

摘要

fin field effect transistor (FinFET) IC , including a FinFET by utilizing a variety of process steps in the formation process diodes , and bipolar junction transistors within the device (BJT) are formed . Diodes or BJT includes a pin array region and an isolated p-well in the region having a pin portion of the pin array region surrounding the n-well within the n -wells and isolated pin region having different depths . Diodes and BJT those for n -wells and p- wells FinFET n -wells and p -wells , along with the injection .
机译:鳍式场效应晶体管(FinFET)IC,包括通过利用形成工艺二极管中的各种工艺步骤而形成的FinFET,并在器件(BJT)中形成了双极结型晶体管。二极管或BJT包括引脚阵列区域和在该区域中的隔离的p阱,该区域中的引脚阵列区域的引脚部分围绕n阱内的n阱,并且隔离的引脚区域具有不同的深度。用于n井和p井的二极管和BJT FinFET n井和p井,以及注入。

著录项

  • 公开/公告号KR101434089B1

    专利类型

  • 公开/公告日2014-08-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号KR20130017817

  • 申请日2013-02-20

  • 分类号H01L29/861;H01L27/04;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 15:40:14

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