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Photoacid generator, photoresist comprising the photoacid generator, and coated article comprising the same

机译：光酸产生剂，包含该光酸产生剂的光刻胶以及包括该光致酸产生剂的涂覆制品

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摘要

A photoacid generator has the formula (I): wherein R1, R2, R3, L1, L2, L3 X, Z+, a, b, c, d, p, q, and r, are defined herein. A photoresist comprises the photoacid generator, and a coated article comprises the photoresist. The photoresist can be used to form an electronic device.

机译：光酸产生剂具有式（I）：其中在本文中定义了R 1，R 2，R 3，L 1，L 2，L 3 X，Z +，a，b，c，d，p，q和r。光致抗蚀剂包括光致产酸剂，并且涂覆的制品包括光致抗蚀剂。光刻胶可用于形成电子器件。

著录项

公开/公告号DE102013007913A8

专利类型
公开/公告日2014-03-13

原文格式PDF
申请/专利权人 ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS LLC;
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申请/专利号DE20131007913
发明设计人 EMAD AQAD;IRVINDER KAUR;CONG LIU;CHENG-BAI XU;MINGQI LI;GREGORY P. PROKOPOWICZ;
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申请日2013-05-07
分类号C07D493/02;G03F7/004;G03F7/20;
国家 DE
入库时间 2022-08-21 15:37:25

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