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Oxide thin film, methods of manufacturing oxide thin film and electronic devices including oxide thin film

机译:氧化物薄膜,氧化物薄膜的制造方法以及包括该氧化物薄膜的电子设备

摘要

Oxide thin film, electronic devices including the oxide thin film and methods of manufacturing the oxide thin film, the methods including (A) applying an oxide precursor solution comprising at least one of zinc (Zn), indium (In) and tin (Sn) on a substrate, (B) heat-treating the oxide precursor solution to form an oxide layer, and (C) repeating the steps (A) and (B) to form a plurality of the oxide layers.
机译:氧化物薄膜,包括该氧化物薄膜的电子器件以及该氧化物薄膜的制造方法,该方法包括(A)施加包括锌(Zn),铟(In)和锡(Sn)中的至少一种的氧化物前体溶液。在基板上,(B)对氧化物前体溶液进行热处理以形成氧化物层,并且(C)重复步骤(A)和(B)以形成多个氧化物层。

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