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METHOD FOR FORMING Ti-CONTAINING FILM BY PEALD USING TDMAT OR TDEAT

机译:用TDMAT或TDEAT通过踏板形成含钛薄膜的方法

摘要

A method for forming a Ti-containing film on a substrate by plasma enhanced atom layer deposition (PEALD) by using tetrakise (dimethyl amino) titamium (TDMAT) or tetrakise (diethyl amino) titanium (TDEAT) comprises the steps of: applying TDMAT and/or TDEAT to a reaction space in which a substrate is arranged by pulse; continuously applying NH_3-free reaction gas to the reaction space; applying RF power to the reaction space by pulse, wherein the pulse of TDMAT and/or TDEAT and pulse of RF power is not overlapped, and repeating the steps for forming Ti-containing film on the substrate.;COPYRIGHT KIPO 2015
机译:一种通过使用四(二甲氨基)钛(TDMAT)或四(二乙氨基)钛(TDEAT)的等离子体增强原子层沉积(PEALD)在基板上形成含Ti膜的方法,包括以下步骤:施加TDMAT;以及/或TDEAT至反应空间,在该反应空间中通过脉冲布置基板;将不含NH_3的反应气体连续施加到反应空间中;通过脉冲将RF功率施加到反应空间,其中TDMAT和/或TDEAT的脉冲与RF功率的脉冲不重叠,并重复在基板上形成含Ti膜的步骤。; COPYRIGHT KIPO 2015

著录项

  • 公开/公告号KR20150041755A

    专利类型

  • 公开/公告日2015-04-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ASM IP HOLDING B.V.;

    申请/专利号KR20140136089

  • 发明设计人 OKABE TATSUHIROJP;TAKAMURE NOBURUJP;

    申请日2014-10-08

  • 分类号H01L21/205;H01L21/28;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 15:00:17

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