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【2h】

Engineering high quality and conformal ultrathin SiNx films by PEALD for downscaled and advanced CMOS nodes

机译：用PEALD为较低和高级CMOS节点的PEARENGENT高品质和共形超薄SINX薄膜

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作者
Antony Premkumar Peter; Takayama Tomomi; Ebisudani Taishi; Shiba Eiichiro; Alfonso Sepulveda; Timothee Blanquart; Yosuke Kimura; Sujith Subramanian; Sylvain Baudot; Briggs Basoene; Anshul Gupta; Anabela Veloso; Elena Capogreco; Hans Mertens; Johan Meersschaut; Thierry Conard; Praveen Dara; Jef Geypen; Gerardo Martinez; Dmitry Batuk; Steven Demuynck; Pierre Morin;
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年度 2021
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