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ELECTROLESS DEPOSITION OF CONTINUOUS COBALT LAYER USING COMPLEXED TITANIUM (III) METAL CATIONS AS REDUCING AGENTS

机译：复杂的钛（III）金属阳离子作为还原剂的连续钴层的化学沉积

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摘要

A solution for electroless deposition of cobalt is provided. A reducing agent of Ti^3+ ions is provided to the solution. Co^2+ ions are provided to the solution.

机译：提供了一种用于化学沉积钴的溶液。将Ti 3+离子的还原剂提供给溶液。将Co 2+离子提供给溶液。

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公开/公告号KR20150124916A

专利类型
公开/公告日2015-11-06

原文格式PDF
申请/专利权人 LAM RESEARCH CORPORATION;
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申请/专利号KR20150059780
发明设计人 NORKUS EUGENIJUS;STANKEVICIENE INA;JAGMINIENE ALDONA;JOI ANIRUDDHA;TAMASAUSKAITE TAMASIUNAITE LORETA;DORDI YEZDI;SUKACKIENE ZITA;
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申请日2015-04-28
分类号C23C18/16;C23C18/08;C23C18/31;
国家 KR
入库时间 2022-08-21 14:58:57

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