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Semiconductor structure comprising an active semiconductor layer of the iii-v type on a buffer layer stack and method for producing semiconductor structure

机译:包括在缓冲层堆叠上的iii-v型有源半导体层的半导体结构及其制造方法

摘要

The present invention relates to a semiconductor structure comprising- a buffer layer stack comprising a plurality of III-V material layers, the buffer layer stack comprising at least one layered substructure, the layered substructure comprising a compressive stress inducing structure between a respective first buffer layer and respective second buffer layer positioned higher in the buffer layer stack than the respective first buffer layer, a lower surface of the respective second buffer layer having a lower Al content than an upper surface of the respective first buffer layer;- an active semiconductor layer of the III-V type provided on the buffer layer stack; and a method for producing the semiconductor structure.
机译:本发明涉及一种半导体结构,其包括-包括多个III-V族材料层的缓冲层堆叠,所述缓冲层堆叠包括至少一个分层的子结构,所述分层的子结构包括在相应的第一缓冲层和相应的第二缓冲层之间的压缩应力诱导结构,所述相应的第一缓冲层和第二缓冲层位于所述第二缓冲层中较高的位置。缓冲层比各个第一缓冲层堆叠,各个第二缓冲层的下表面具有比各个第一缓冲层的上表面低的Al含量;-设置在缓冲层堆叠上的III-V型有源半导体层;以及用于制造半导体结构的方法。

著录项

  • 公开/公告号EP2983195A1

    专利类型

  • 公开/公告日2016-02-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 EPIGAN NV;

    申请/专利号EP20140179690

  • 发明设计人 DERLUYN JOFF;DEGROOTE STEFAN;

    申请日2014-08-04

  • 分类号H01L21/02;

  • 国家 EP

  • 入库时间 2022-08-21 14:47:53

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