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Β-Ga2O3-based single crystal substrate for growth of Ga-containing oxide layer

机译:基于growth-Ga2O3的单晶衬底,用于生长含Ga的氧化物层

摘要

Provided are: a crystal laminate structure, in which crystals can be epitaxially grown on a ²-Ga 2 O 3 -based substrate with high efficiency to produce a high-quality ²-Ga 2 O 3 -based crystal film on the substrate; and a method for producing the crystal laminate structure. Provided is a crystal laminate structure (2) comprising: a ²-Ga 2 O 3 -based substrate (1), of which the major face (10) is a face that is rotated by 50 to 90° inclusive with respect to face (100); and a ²-Ga 2 O 3 -based crystal film (2) which is formed by the epitaxial crystal growth on the major face (10) of the ²-Ga 2 O 3 -based substrate (1).
机译:提供:一种晶体层压结构,其中可以在²-Ga2 O 3基衬底上高效地外延生长晶体,从而在衬底上生产高质量的²-Ga2 O 3基晶体膜。以及用于制造晶体层压结构的方法。提供了一种晶体层压结构(2),其包括:2 -Ga 2 O 3基衬底(1),其中主面(10)是相对于面(包括面)旋转50至90°(包括端值)的面。 100);通过在2 -Ga 2 O 3基衬底(1)的主表面(10)上外延晶体生长形成的2 -Ga 2 O 3基晶体膜(2)。

著录项

  • 公开/公告号JP5952360B2

    专利类型

  • 公开/公告日2016-07-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社タムラ製作所;

    申请/专利号JP20140179414

  • 发明设计人 佐々木 公平;

    申请日2014-09-03

  • 分类号C30B29/16;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 14:44:13

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