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LOW COST WIDE PROCESS RANGE MICROWAVE REMOTE PLASMA SOURCE WITH MULTIPLE EMITTERS

机译:具有多种辐射体的低成本全过程远程微波等离子体源

摘要

A remote plasma source has an array of low cost microwave magnetron heads coupled to individual conical, horn or other microwave emitter antennas above a gas shower head of a workpiece processing chamber.
机译:远程等离子体源具有一系列低成本微波磁控管喷头,这些磁控管喷头耦合到工件处理室的气体喷淋头上方的各个锥形,喇叭形或其他微波发射器天线。

著录项

  • 公开/公告号US2015371828A1

    专利类型

  • 公开/公告日2015-12-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 APPLIED MATERIALS INC.;

    申请/专利号US201414313173

  • 发明设计人 MICHAEL W. STOWELL;

    申请日2014-06-24

  • 分类号H01J37/32;C23C16/455;C23C16/511;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 14:34:40

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