首页> 外国专利> Pattern transfer with self-assembled nanoparticle assemblies

Pattern transfer with self-assembled nanoparticle assemblies

机译:自组装纳米粒子组件的图案转移

摘要

In one aspect, a method comprises: providing a substrate having at least one layer in which the patterned dot array is to be fabricated; depositing a nanoparticle layer, wherein the nanoparticle layer comprises one or more surfactants and nanoparticles coated with the one or more surfactants; treating the one or more surfactants that coat the nanoparticles and the portions of the one or more surfactants that fill the spaces among the nanoparticles; removing the portions of the one or more surfactants that fill the spaces among the nanoparticles to expose portions of the at least one layer in which the patterned dot array is to be fabricated; etching the exposed portions of the at least one layer in which the patterned dot array is to be fabricated; and removing at least a portion of the nanoparticles.
机译:在一个方面,一种方法包括:提供具有至少一层要在其中制造图案化的点阵列的衬底;沉积纳米颗粒层,其中所述纳米颗粒层包含一种或多种表面活性剂和涂覆有所述一种或多种表面活性剂的纳米颗粒;处理覆盖纳米颗粒的一种或多种表面活性剂和填充纳米颗粒之间的空间的一种或多种表面活性剂的部分;去除一种或多种表面活性剂填充纳米颗粒之间的空间的部分,以暴露至少一层中将要制造图案化的点阵列的部分;蚀刻至少一层将要形成图案化点阵列的暴露部分;并除去至少一部分纳米颗粒。

著录项

  • 公开/公告号US9487869B2

    专利类型

  • 公开/公告日2016-11-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 CARNEGIE MELLON UNIVERSITY;

    申请/专利号US201313907716

  • 发明设计人 TIANLONG WEN;SARA MAJETICH;

    申请日2013-05-31

  • 分类号C23F1/04;B05D3/14;G03F7/00;B82Y40/00;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 14:31:08

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号