机译:在处理腔室中的层沉积过程中支持基质载体和掩膜载体的保持装置,在基质上沉积层的装置以及用于为基质载体和基质载体提供支持的基质载体的方法
公开/公告号WO2016112951A1
专利类型
公开/公告日2016-07-21
原文格式PDF
申请/专利权人 APPLIED MATERIALS INC.;VERCESI TOMMASO;HAAS DIETER;BANGERT STEFAN;HEIMEL OLIVER;GISLON DANIELE;
申请/专利号WO2015EP50420
申请日2015-01-12
分类号C23C14/04;C23C16/04;C23C14/50;C23C14/12;C23C16/458;H01L51;H01L21/68;
国家 WO
入库时间 2022-08-21 14:17:10