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DEEP UV LIGHT-EMITTING DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING DEEP UV LIGHT-EMITTING DEVICE

机译:深紫外发光装置及制造深紫外发光装置的方法

摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a technique for lowering an operation voltage of a deep UV light-emitting device having a vertical structure.SOLUTION: A deep UV light-emitting device 10 comprises: an electronic block layer 22 of a p-type AlGaN-based semiconductor material or p-type AlN-based semiconductor material, provided on a support substrate 32; an active layer 20 of an AlGaN-based semiconductor material, provided on the electronic block layer 22; an n-type clad layer 18 of an n-type AlGaN-based semiconductor material provided on the active layer 20; an n-type contact layer 34 of an n-type semiconductor material including a gallium nitride (GaN), provided on a partial region on the n-type clad layer 18; and an n-side electrode 36 formed on the n-type contact layer 34. The n-type contact layer 34 is smaller than the n-type clad layer 18 in band gap.SELECTED DRAWING: Figure 1
机译:解决的问题:提供一种降低具有垂直结构的深紫外发光器件的工作电压的技术方案:深紫外发光器件10包括:p型AlGaN的电子阻挡层22基半导体材料或p型AlN基半导体材料,设置在支撑基板32上;设置在电子阻挡层22上的基于AlGaN的半导体材料的有源层20;设置在有源层20上的n型AlGaN基半导体材料的n型覆盖层18;设置在n型覆盖层18上的部分区域上的包括氮化镓(GaN)的n型半导体材料的n型接触层34;以及在n型接触层34上形成的n侧电极36。n型接触层34的带隙小于n型覆盖层18。

著录项

  • 公开/公告号JP2017201655A

    专利类型

  • 公开/公告日2017-11-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 NIKKISO CO LTD;

    申请/专利号JP20160092617

  • 发明设计人 INAZU TETSUHIKO;PERNO SILYL;

    申请日2016-05-02

  • 分类号H01L33/32;H01L21/205;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 13:59:40

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