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Non-cyanide copper - tin alloy plating bath

机译:无氰铜-锡合金电镀液

摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a plating bath yielding excellent film physical properties by avoiding embrittlement of the film, which is made possible by absence of liberation of pyridine caused by pH variation.SOLUTION: The provided cyanogen-free copper-tin alloy plating bath not only includes a divalent copper salt, a divalent tin salt, and a complexing agent but also includes, as a brightener, a reaction product of a pyridine compound and an organic sulfonic acid compound.
机译:解决的问题:提供一种电镀液,通过避免膜变脆来产生优异的膜物理性能,而避免由于pH变化引起的吡啶释放而使膜变脆解决方案:提供的无氰铜锡合金电镀液不仅包括二价铜盐,二价锡盐和络合剂,而且还包括吡啶化合物与有机磺酸化合物的反应产物作为增白剂。

著录项

  • 公开/公告号JP6093143B2

    专利类型

  • 公开/公告日2017-03-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社シミズ;

    申请/专利号JP20120232279

  • 发明设计人 河本 和彦;小倉 亮太;清水 剛;

    申请日2012-10-19

  • 分类号C25D3/58;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 13:55:27

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