机译:III-V族元素的氧化物的去除溶液和去除方法,III-V族元素的化合物的处理液,III-V族元素的抗氧化剂,半导体衬底的处理液和半导体衬底产品的制造方法
公开/公告号JPWO2016129509A1
专利类型
公开/公告日2017-08-03
原文格式PDF
申请/专利权人 富士フイルム株式会社;
申请/专利号JP20160574772
申请日2016-02-04
分类号H01L21/304;H01L21/308;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 13:53:49