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Growth of semiconductors on hetero-substrates using graphene as an interfacial layer

机译:使用石墨烯作为界面层在异质衬底上生长半导体

摘要

Graphene is used as an interfacial layer to grow Si and other semiconductors or crystalline materials including two-dimensional Si and other structures on any foreign substrate that can withstand the growth temperature without the limitation matching condition typically required for epitaxial growth.
机译:石墨烯用作界面层,以在可以承受生长温度而没有通常外延生长所需的限制匹配条件的任何异质衬底上生长Si和其他半导体或晶体材料,包括二维Si和其他结构。

著录项

  • 公开/公告号US9812527B2

    专利类型

  • 公开/公告日2017-11-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 YONG ZHANG;RAPHAEL TSU;NAILI YUE;

    申请/专利号US201715463804

  • 发明设计人 YONG ZHANG;RAPHAEL TSU;NAILI YUE;

    申请日2017-03-20

  • 分类号H01L21/00;H01L29/16;H01L29/165;H01L21/02;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 13:43:23

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