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METHOD FOR PROCESSING ZIRCONIA

机译：氧化锆的加工方法

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The present invention addresses the problem of providing a method for processing zirconia without producing monoclinic crystals. The means for solving this problem is a method for processing zirconia characterized by including a step for irradiating zirconia by a laser having a pulse width of 10^-12-10^-15 seconds at an intensity of 10¹³-10¹⁵ W/cm².

机译：本发明解决了提供一种不生产单斜晶体的氧化锆加工方法的问题。解决该问题的手段是一种氧化锆的处理方法，其特征在于，包括利用脉冲宽度为10 ^{-12 -10 ^{-15 秒的激光照射氧化锆的步骤。强度为10 ^{13 -10 ^{15 W / cm ^{2 。}}}}}

著录项

公开/公告号WO2017026038A1

专利类型
公开/公告日2017-02-16

原文格式PDF
申请/专利权人 HAMAMATSU PHOTONICS K.K.;
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申请/专利号WO2015JP72670
发明设计人 KOMEDA OSAMU;HIOKI TATSUMI;AZUMA HIROZUMI;OHSHIMA SHIGEKI;KAJINO TSUTOMU;KITAGAWA YONEYOSHI;MORI YOSHITAKA;ISHII KATSUHIRO;HANAYAMA RYOHEI;NISHIMURA YASUHIKO;MIURA EISUKE;KONDO TAKUYA;KAWASHIMA TOSHIYUKI;KAN HIROFUMI;SATOH NAKAHIRO;SEKINE TAKASHI;KURITA TAKASHI;SUNAHARA ATSUSHI;MOTOHIRO TOMOYOSHI;
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申请日2015-08-10
分类号C04B41/91;B23K26/354;C04B41/80;
国家 WO
入库时间 2022-08-21 13:32:13

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