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CMOS DEVICE FOR ACHIEVING GLOBAL EXPOSURE, TERMINAL THEREOF AND EXPOSURE CONTROL METHOD THEREFOR

机译:用于实现全局曝光的CMOS器件,其终端及其曝光控制方法

摘要

A complementary metal-oxide semiconductor (CMOS) device for achieving global exposure, a terminal thereof and an exposure control method therefor, and a computer storage medium, wherein the CMOS device for achieving global exposure comprising: a CMOS image sensor, and a substrate below the CMOS image sensor. An electronic film is arranged between the CMOS image sensor and the substrate, such that light emitted by the CMOS image sensor is subject to light transmitting processing by the electronic film, and then the processed light is incident on the substrate, as such the amount of the light incident on the substrate can be changed with the light transmitting processing.
机译:用于实现全局曝光的互补金属氧化物半导体(CMOS)装置,其端子及其曝光控制方法以及计算机存储介质,其中,用于实现全局曝光的CMOS装置包括:CMOS图像传感器和下面的基板CMOS图像传感器。电子膜被布置在CMOS图像传感器和基板之间,使得由CMOS图像传感器发射的光受到电子膜的光透射处理,然后处理的光以这样的量入射到基板上。入射在基板上的光可以通过透光处理而改变。

著录项

  • 公开/公告号WO2017185786A1

    专利类型

  • 公开/公告日2017-11-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 NUBIA TECHNOLOGY CO. LTD.;

    申请/专利号WO2016CN112493

  • 发明设计人 XIE SHUXUN;

    申请日2016-12-27

  • 分类号H04N5/3745;

  • 国家 WO

  • 入库时间 2022-08-21 13:29:09

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