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Brief description of a layer of gallium nitride having dislocations

机译:具有位错的氮化镓层的简要说明

摘要

A method is for treating a doped gallium nitride substrate of a first conductivity type, having dislocations emerging on the side of at least one of its surfaces. The method may include: a) forming, where each dislocation emerges, a recess extending into the substrate from the at least one surface; and b) filling the recesses with doped gallium nitride of the second conductivity type.
机译:一种用于处理第一导电类型的掺杂的氮化镓衬底的方法,该掺杂的氮化镓衬底在其至少一个表面的侧面上出现位错。该方法可以包括:a)在每个位错出现的地方形成从至少一个表面延伸到基板中的凹槽; b)用第二导电类型的掺杂氮化镓填充凹槽。

著录项

  • 公开/公告号FR3010228B1

    专利类型

  • 公开/公告日2016-12-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 STMICROELECTRONICS (TOURS) SAS;

    申请/专利号FR20130058324

  • 发明设计人 YVON ARNAUD;

    申请日2013-08-30

  • 分类号H01L21/71;H01L23/12;H01L29/872;

  • 国家 FR

  • 入库时间 2022-08-21 13:21:31

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