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DEPOSITION OF THERMOOXIDATIVE STABLE SILICON CARBIDE (SIC) LAYER ON CARBON AND GRAPHITE SUBSTRATES

机译:将热氧化稳定的碳化硅(SIC)层沉积在碳和石墨基体上

摘要

The present invention relates to a process for generating thermooxidative stable silicon carbide (SiC) layer on carbon and graphite substrates. The silicon carbide (SiC) layering was achieved by thermolysis of polymerized silanes, generated by exposing the coated cycloorganosilanes under high energy UV rays or heating nearly 200oC followed by thermolysis. The silicon carbide (SiC) layered graphite or carbon has very high thermal stability and can be used for components for propulsion, hypersonic plane, brake disc, clutch disc etc.
机译:本发明涉及在碳和石墨衬底上产生热氧化稳定碳化硅(SiC)层的方法。碳化硅(SiC)层是通过聚合硅烷的热分解而实现的,聚合硅烷是通过将涂覆的环有机硅烷暴露于高能紫外线或加热至200oC之后进行热分解而生成的。碳化硅(SiC)层状石墨或碳具有很高的热稳定性,可用于推进,超音速飞机,制动盘,离合器盘等部件。

著录项

  • 公开/公告号IN201611033973A

    专利类型

  • 公开/公告日2018-04-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号IN201611033973

  • 申请日2016-10-04

  • 分类号C09D179/08;

  • 国家 IN

  • 入库时间 2022-08-21 12:52:15

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