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COPPER SULFATE COPPER SULFATE SOLUTION PLATING SOLUTION METHOD OF MANUFACTURING COPPER SULFATE METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR CIRCUIT BOARD AND METHOD OF MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE

机译:硫酸铜制造的溶液硫酸铜溶液的制造方法电路基板的制造方法硫酸铜的制造方法以及电子设备的制造方法

摘要

The present invention provides a copper sulfate, a copper sulfate solution, a plating solution, a manufacturing method of a copper sulfate, a manufacturing method of a semiconductor circuit board and a manufacturing method of an electronic device, which reduce an aluminum (Al) concentration. The copper sulfate has the Al concentration of 0.08 mass ppm or less.
机译:本发明提供降低铝(Al)浓度的硫酸铜,硫酸铜溶液,镀液,硫酸铜的制造方法,半导体电路基板的制造方法以及电子设备的制造方法。 。硫酸铜的Al浓度为0.08质量ppm以下。

著录项

  • 公开/公告号KR20180111658A

    专利类型

  • 公开/公告日2018-10-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 JX NIPPON MINING & METALS CORPORATION;

    申请/专利号KR20180036817

  • 发明设计人 NAGAURA TOMOTA;ISHII MASAFUMI;

    申请日2018-03-29

  • 分类号C01G3/10;C25D3/38;C25D7;H01L23/532;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 12:38:56

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