首页> 外国专利> 3 REGENERATION OF ETCH SOLUTIONS CONTAINING TRIVALENT MANGANESE IN ACID MEDIA

3 REGENERATION OF ETCH SOLUTIONS CONTAINING TRIVALENT MANGANESE IN ACID MEDIA

机译:3酸性介质中含三价锰的蚀刻液的再生

摘要

There is disclosed a method of regenerating an etch solution comprising a metastable complex of manganese (III) ions in a strong acid wherein at least a portion of the manganese (III) ions in the metastable complex are unstable, (II) ions. The method comprising: i) adding an effective amount of a reducing agent to the etching solution; ii) allowing the reducing agent to react with the etching solution to cause the manganese dioxide to dissolve; And iii) applying a current to regenerate the manganese (III) ions in the etching solution.
机译:公开了一种再生蚀刻溶液的方法,该蚀刻溶液包括在强酸中的亚稳锰(III)离子的亚稳络合物,其中在该亚稳络合物中的至少一部分锰(III)离子是不稳定的(II)离子。该方法包括:i)向蚀刻溶液中添加有效量的还原剂; ii)使还原剂与蚀刻溶液反应以使二氧化锰溶解; iii)施加电流以在蚀刻溶液中再生锰(III)离子。

著录项

  • 公开/公告号KR101819884B1

    专利类型

  • 公开/公告日2018-01-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 맥더미드 애큐맨 인코포레이티드;

    申请/专利号KR20157033426

  • 发明设计人 허드만 로더릭 디.;

    申请日2014-04-01

  • 分类号C09K13/04;C01G45/02;C08J7;C25B1/21;H05K3/38;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 12:38:34

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号