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Roll to roll patterning system and patterning method using the same

机译:卷对卷构图系统及使用该系统的构图方法

摘要

The present invention relates to a roll unit capable of continuously winding a base material layer having a corneal epithelium from one side and winding it from the other side; A resist forming unit for forming an etch resist pattern and a mark pattern having a plurality of steps on the base substrate layer moved by the roll unit; An etching unit for etching the corneal epitaxy using the etch resist pattern; An etching unit for etching the etch resist pattern and the mark pattern; And a measuring unit arranged at least on one side of the ashing unit to measure a shape of the mark pattern, and a patterning method using the roll-to-roll patterning system.
机译:辊单元技术领域本发明涉及一种辊单元,其能够从一侧连续卷绕具有角膜上皮的基材层并且从另一侧卷绕该辊单元。抗蚀剂形成单元,用于在通过辊单元移动的基础基板层上形成具有多个台阶的抗蚀剂图案和标记图案。蚀刻单元,其使用抗蚀剂图案蚀刻角膜外延;蚀刻单元,用于蚀刻抗蚀剂图案和标记图案;以及至少设置在所述灰化单元的一侧以测量所述标记图案的形状的测量单元,以及使用卷对卷图案形成系统的图案形成方法。

著录项

  • 公开/公告号KR101862403B1

    专利类型

  • 公开/公告日2018-05-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 엘지디스플레이 주식회사;

    申请/专利号KR20110131062

  • 发明设计人 이신복;최성우;

    申请日2011-12-08

  • 分类号G02F1/13;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 12:37:48

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