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Charge part chen beam device and sample observation method for a charge part chen beam device

机译:装料部电子束装置和装料部电子束装置的样品观察方法

摘要

The charge part chen beam apparatus comprising: an electron gun for generating an electron beam; an image as a lens system for mapping the electron beam, which are passed through a sample; a dividing labs chnitt (6), where the environment through the image system electron beam lenses which are passed into a first image component and a second image component is divided; a first image acquisition unit (7) for detecting the first image component and outputting a first image (32); a second image acquisition unit (9) for detecting the second image component and outputting a second image (33); a processing unit; and display units (14, 15). The magnification for the second image (33) is greater than the magnification for the first image (32). The processing unit generates a third image (36), in that the first image (32) and the second image (33) are combined, and the display units (14, 15) show the second image (33) and the third image (36) on.
机译:充电部电子束装置包括:用于产生电子束的电子枪;以及用于产生电子束的电子枪。图像,作为用于映射穿过样品的电子束的透镜系统;分割实验室电路(6),其中通过成像系统的电子束透镜将环境分为第一图像成分和第二图像成分。第一图像获取单元(7),用于检测第一图像分量并输出第一图像(32);第二图像获取单元(9),用于检测第二图像分量并输出第二图像(33);处理单元;和显示单元(14、15)。第二图像(33)的放大率大于第一图像(32)的放大率。处理单元生成第三图像(36),其中第一图像(32)和第二图像(33)被组合,并且显示单元(14、15)示出第二图像(33)和第三图像(36)。 36)。

著录项

  • 公开/公告号DE112015006359T5

    专利类型

  • 公开/公告日2017-12-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION;

    申请/专利号DE20151106359T

  • 发明设计人 TAKASHI KUBO;

    申请日2015-03-25

  • 分类号H01J37/22;H01J37/244;H01J37/26;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-21 12:34:57

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