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Semiconductor wafer mass metrology apparatus and semiconductor wafer mass metrology method

机译:半导体晶片质量计量装置及半导体晶片质量计量方法

摘要

A semiconductor wafer mass metrology apparatus comprising:a measurement chamber for measuring the weight and/or the mass of a semiconductor wafer;a first temperature changing part for changing a temperature of the semiconductor wafer before the semiconductor wafer is transported into the measurement chamber; and a first temperature sensor for sensing a first temperature, wherein the first temperature is:a temperature of the first temperature changing part; or a temperature of the semiconductor wafer when the semiconductor wafer is on the first temperature changing part,or when the semiconductor wafer leaves the first temperature changing part.
机译:一种半导体晶片质量计量设备,包括:测量室,用于测量半导体晶片的重量和/或质量;第一温度改变部分,用于在将半导体晶片输送到测量室之前改变半导体晶片的温度;第一温度传感器,用于感测第一温度,第一温度为:第一温度变化部的温度;当半导体晶片在第一温度变化部分上时,或者当半导体晶片离开第一温度变化部分时,温度或半导体晶片的温度。

著录项

  • 公开/公告号GB201806377D0

    专利类型

  • 公开/公告日2018-06-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 METRYX LIMITED;

    申请/专利号GB20180006377

  • 发明设计人

    申请日2018-04-19

  • 分类号

  • 国家 GB

  • 入库时间 2022-08-21 12:32:31

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