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SEMICONDUCTOR WAFER MASS METROLOGY APPARATUS AND SEMICONDUCTOR WAFER MASS METROLOGY METHOD

机译:半导体晶片质量计量装置和半导体晶片块质量计量方法

摘要

A semiconductor wafer mass metrology apparatus comprising: a measurement chamber for measuring the weight and/or the mass of a semiconductor wafer; a first temperature changing part for changing a temperature of the semiconductor wafer before the semiconductor wafer is transported into the measurement chamber; and a first temperature sensor for sensing a first temperature, wherein the first temperature is: a temperature of the first temperature changing part; or a temperature of the semiconductor wafer when the semiconductor wafer is on the first temperature changing part, or when the semiconductor wafer leaves the first temperature changing part.
机译:一种半导体晶片质量计量装置,包括:用于测量半导体晶片的重量和/或质量的测量室;在半导体晶片输送到测量室之前,用于改变半导体晶片的温度的第一温度改变部分;和用于感测第一温度的第一温度传感器,其中第一温度是:第一温度变化部的温度;当半导体晶片处于第一温度改变部分时或者当半导体晶片离开第一温度改变部分时,半导体晶片的温度。

著录项

  • 公开/公告号US2021175102A1

    专利类型

  • 公开/公告日2021-06-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 METRYX LIMITED;

    申请/专利号US201917048489

  • 发明设计人 GREGOR ELLIOTT;ERIC TONNIS;

    申请日2019-04-03

  • 分类号H01L21/67;G01N25/72;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-24 19:07:18

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