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ACTINIC RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTINIC RAY- OR RADIATION-SENSITIVE FILM AND METHOD OF FORMING PATTERN

机译：消隐射线或辐射敏感的树脂组合物，消隐射线或辐射敏感的膜及形成图案的方法

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摘要

According to one embodiment, provide a kind of actinic penetrate or radiation-sensitive resin composition, including the compound that (one) indicates, general formula following (1) generates a kind of acid, when being exposed to actinic ray or radiation (B groups) resin. ( 1 )

机译：根据一个实施方案，提供一种光化渗透或辐射敏感性树脂组合物，其包括以下化合物：（1）表示的通式（1）的通式当暴露于光化射线或辐射（B基团）时产生一种酸。）树脂。（1）

著录项

公开/公告号EP2776889B1

专利类型
公开/公告日2019-04-03

原文格式PDF
申请/专利权人 FUJIFILM CORPORATION;
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申请/专利号EP20120847779
发明设计人 SHIBUYA AKINORI;MATSUDA TOMOKI;KATAOKA SHOHEI;TANGO NAOHIRO;TOKUGAWA YOKO;ITO JUNICHI;FUKUHARA TOSHIAKI;IWATO KAORU;YOSHIDOME MASAHIRO;SUGIYAMA SHINICHI;
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申请日2012-11-02
分类号G03F7/004;G03F7/039;G03F7/20;G03F7/32;
国家 EP
入库时间 2022-08-21 12:31:33

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