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Yttrium Aluminum Silicate Glass Ceramic Coating For Semiconductor Chamber Apparatus

机译:半导体腔室设备用钇铝硅酸盐玻璃陶瓷涂层

摘要

Articles may be protected against halide plasma, by applying a rare earth-containing glaze to the surface of the article. The glaze may be a coating comprising; 20 to 90 mol % SiO2, 0 to 60 mol % Al2O3, 10 to 80 mol % rare earth oxides and/or rare earth fluorides (REX), wherein SiO2+Al2O3+REX≥60 mol %.
机译:通过将含稀土的釉料涂在制品表面上,可以防止制品受到卤化物等离子体的伤害。釉料可以是包含以下物质的涂层: 20至90 mol%SiO 2 ,0至60 mol%Al 2 O 3 ,10至80 mol%稀土氧化物和/或稀土氟化物(REX),其中SiO 2 + Al 2 O 3 + REX≥ 60摩尔%。

著录项

  • 公开/公告号US2019256405A1

    专利类型

  • 公开/公告日2019-08-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 MORGAN ADVANCED CERAMICS INC.;

    申请/专利号US201716343300

  • 发明设计人 CHENGTSIN LEE;

    申请日2017-11-02

  • 分类号C03C8/06;C03C3/095;C03C3/112;C03C8/02;C04B41;C04B41/50;C04B41/86;H01L21/687;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 12:09:22

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