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PEROVSKITE SURFACE DEFECT PASSIVATION USING ZWITTERIONIC AMINO ACIDS

机译:两性离子氨基酸对钙钛矿表面缺陷的钝化

摘要

Semiconductor devices including a cathode layer, an anode layer, an active layer disposed between the cathode layer and the anode layer, wherein the active layer includes a perovskite layer, and a passivation layer disposed directly on a surface of the active layer between the cathode layer and the active layer, the passivation layer including a zwitterionic amino acid, such as valine or phenylalanine or other amino acid that passivates both cationic and anionic defects in the surface of the active layer.
机译:半导体器件,包括阴极层,阳极层,设置在阴极层和阳极层之间的有源层,其中该有源层包括钙钛矿层以及直接设置在该阴极层之间的有源层的表面上的钝化层钝化层包括两性离子氨基酸,例如缬氨酸或苯丙氨酸或其他使活性层表面的阳离子和阴离子缺陷均钝化的氨基酸。

著录项

  • 公开/公告号US2019164699A1

    专利类型

  • 公开/公告日2019-05-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 NUTECH VENTURES;

    申请/专利号US201916248420

  • 申请日2019-01-15

  • 分类号H01G9/20;H01G9;H01L51;H01L51/42;H01L51/44;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 12:06:50

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