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MEMRISTOR FABRICATION METHOD, MEMRISTOR AND RESISTIVE RANDOM ACCESS MEMORY RRAM

机译:存储器制造方法,存储器和电阻式随机存取存储器

摘要

Provided in embodiments of the present application are a memristor fabrication method, a memristor, and a resistive random access memory (RRAM), the memristor fabrication method comprising: depositing a lower electrode of a memristor; preparing a resistance layer of the memristor along a cross section of the deposition direction of the lower electrode of the memristor; preparing an upper electrode of the memristor on the resistance layer of the memristor.
机译:在本申请的实施例中提供了一种忆阻器制造方法,忆阻器和电阻式随机存取存储器(RRAM),该忆阻器制造方法包括:沉积忆阻器的下电极;沿着忆阻器的下部电极的沉积方向的横截面准备忆阻器的电阻层;在忆阻器的电阻层上准备忆阻器的上电极。

著录项

  • 公开/公告号WO2019174032A1

    专利类型

  • 公开/公告日2019-09-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SHENZHEN GOODIX TECHNOLOGY CO. LTD.;

    申请/专利号WO2018CN79279

  • 发明设计人 YAO GUOFENG;SHEN JIAN;

    申请日2018-03-16

  • 分类号H01L45;

  • 国家 WO

  • 入库时间 2022-08-21 11:53:18

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