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- - MOLYBDENUM-CONTAINING COMPOUND PRECURSOR COMPOSITION INCLUDING MOLYBDENUM-CONTAINING COMPOUND FOR LAYER DEPOSITION AND DEPOSITING METHOD OF LAYER USING THE SAME

机译:---含钼化合物前体组合物,其包含用于层沉积的含钼化合物和使用该层的沉积方法

摘要

Provided are a novel molybdenum-containing compound, a precursor composition for film deposition comprising a molybdenum-containing compound, and a method for depositing a molybdenum-containing film using the precursor composition. The molybdenum-containing compound according to an embodiment of the present application can be applied to various fields such as a catalyst and the like.
机译:本发明提供新颖的含钼化合物,包含含钼化合物的膜沉积用前驱体组合物,以及使用该前驱体组合物沉积含钼膜的方法。根据本申请的实施方式的含钼化合物可以应用于各种领域,例如催化剂等。

著录项

  • 公开/公告号KR20190119726A

    专利类型

  • 公开/公告日2019-10-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 UP CHEMICAL CO. LTD.;

    申请/专利号KR20180043047

  • 发明设计人 HAN WON SEOK;KOH WONYONG;

    申请日2018-04-13

  • 分类号C07F11;C23C16/18;C23C16/455;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 11:49:33

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