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Group 5 metal compound, method for preparing the same, precursor composition for depositing layer containing the same, and method for depositing layer using the same

机译：第5族金属化合物，其制备方法，包含该化合物的沉积层的前体组合物以及使用该化合物的沉积层的方法

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摘要

The present disclosure relates to a novel Group 5 metal compound, a method for preparing the Group 5 metal compound, a precursor composition for depositing a Group 5 metal-containing layer containing the Group 5 metal compound, and a method for depositing a Group 5 metal-containing layer using the precursor composition for depositing a Group 5 metal-containing layer.

机译：本公开涉及新颖的第5族金属化合物，制备第5族金属化合物的方法，用于沉积包含第5族金属化合物的含第5族金属的层的前体组合物以及用于沉积第5族金属的方法。使用用于沉积第5族含金属层的前体组合物的含氟层。

著录项

公开/公告号US10577385B2

专利类型
公开/公告日2020-03-03

原文格式PDF
申请/专利权人 UP CHEMICAL CO. LTD.;
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申请/专利号US201916296395
发明设计人 WON SEOK HAN;MYEONG-HO PARK;DAE-YOUNG KIM;JUN HWAN CHOI;
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申请日2019-03-08
分类号C07F9;C23C16/18;H01L21/285;C23C16/34;C07F17;C23C16/455;C23C16/40;H01L21/02;H01L21/28;
国家 US
入库时间 2022-08-21 11:27:21

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