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4 - GROUP 4 METAL ELEMENT-CONTAINING COMPOUND PREPARING METHOD THEREOF PRECURSOR COMPOSITION INCLUDING THE SAME FOR LAYER DEPOSITION AND DEPOSITING METHOD OF LAYER USING THE SAME

机译:包含用于层沉积的相同成分的4-4类含金属元素的化合物的制备方法以及使用该方法的层沉积方法

摘要

The present invention relates to a novel group 4 metal element-containing compound, to a production method of the group 4 metal element-containing compound, to a precursor composition for film deposition, comprising the group 4 metal element-containing compound, and to a deposition method of the group 4 metal element-containing film using the precursor composition.
机译:本发明涉及一种新颖的含第4族金属元素的化合物,该含第4族金属元素的化合物的制备方法,涉及包含该含第4族金属元素的化合物的用于膜沉积的前体组合物,以及该组合物。使用该前体组合物的含4族金属元素的膜的沉积方法。

著录项

  • 公开/公告号KR20170092467A

    专利类型

  • 公开/公告日2017-08-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 UP CHEMICAL CO. LTD.;

    申请/专利号KR20170015033

  • 发明设计人 HAN WON SEOK;KOH WON YONG;PARK MYEONG HO;

    申请日2017-02-02

  • 分类号C07F7;C23C16/30;C23C16/44;C23C16/455;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 13:26:51

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