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METHOD FOR MANUFACTURING BLOCKCOPOLYMER MULTI-LAYERED THIN FILM AND THE BLOCKCOPOLYMER MULTI-LAYERED THIN FILM MANUFACTURING BY THE METHOD

机译:制备嵌段共聚物多层薄膜的方法和采用该方法制备嵌段共聚物多层薄膜的方法

摘要

The process for preparing the block copolymer multilayer thin film of the present invention and the block copolymer multilayer thin film prepared therefrom can induce regular vertical alignment of the nanometer size of the block copolymer by a simple process without complicated pretreatment process, Excellent. At the same time, since the limitation of the thickness of the thin film is low, a thicker thin film and a multilayer thin film can be manufactured.
机译:本发明的嵌段共聚物多层薄膜的制备方法和由其制备的嵌段共聚物多层薄膜可以通过简单的方法而无需复杂的预处理过程而引起嵌段共聚物的纳米尺寸的规则的垂直取向,这是极好的。同时,由于薄膜厚度的限制低,因此可以制造较厚的薄膜和多层薄膜。

著录项

  • 公开/公告号KR101960334B1

    专利类型

  • 公开/公告日2019-03-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 한국원자력연구원;

    申请/专利号KR20160126539

  • 发明设计人 구자승;최기인;김태호;

    申请日2016-09-30

  • 分类号B32B27/06;B32B37/06;B32B9;C08J5/18;C08L25/08;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 11:48:55

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