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INDIUM ELECTROPLATING COMPOSITIONS CONTAINING AMINE COMPOUNDS AND METHODS OF ELECTROPLATING INDIUM

机译:包含胺化合物的铟电镀组合物和电镀铟的方法

摘要

An indium electroplating composition containing a trace amount of an amine compound for electroplating a substantially defect free and uniform indium having a smooth surface form. Indium electroplating compositions can be used for electroplating indium metal on metal substrates of various substrates such as semiconductor wafers and as thermal interface materials.
机译:一种包含微量胺化合物的铟电镀组合物,用于电镀基本上无缺陷且具有光滑表面形式的均匀铟。铟电镀组合物可用于将铟金属电镀在各种基底(例如半导体晶片)的金属基底上并用作热界面材料。

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