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METHOD FOR DIRECT PATTERNED GROWTH OF ATOMIC LAYER TRANSITION METAL DICHALCOGENIDES

机译:原子层跃迁金属二硫化物的直接图案生长方法

摘要

A method for direct growth of a patterned transition metal dichalcogenide monolayer, the method including the steps of providing a substrate covered by a mask, the mask having a pattern defined by one or more shaped voids; thermally depositing a salt on the substrate through the one or more shaped voids such that a deposited salt is provided on the substrate in the pattern of the mask; and thermally co-depositing a transition metal oxide and a chalcogen onto the deposited salt to form the patterned transition metal dichalcogenide monolayer having the pattern of the mask. Also provided is a patterned transition metal dichalcogenide monolayer prepared according to the method.
机译:一种直接生长图案化过渡金属二硫化二锡单层的方法,该方法包括以下步骤:提供被掩模覆盖的基底,该掩模具有由一个或多个成形空隙限定的图案;通过一个或多个成形的空隙将盐热沉积在基板上,从而以掩模的图案在基板上提供沉积的盐;将过渡金属氧化物和硫族元素热共沉积到沉积的盐上,以形成具有掩模图案的图案化过渡金属二卤化硅单层。还提供了根据所述方法制备的图案化的过渡金属二卤化二锡单层。

著录项

  • 公开/公告号EP3575436A1

    专利类型

  • 公开/公告日2019-12-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 HONDA MOTOR CO. LTD.;

    申请/专利号EP20190171536

  • 发明设计人 LI XUFAN;HARUTYUNYAN AVETIK;

    申请日2019-04-29

  • 分类号C23C14/04;C23C14/06;C23C14/24;C23C16/04;C23C16/30;C23C16/448;H01L21/02;

  • 国家 EP

  • 入库时间 2022-08-21 11:37:51

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