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具有预定宽度的原子层金属二硫属元素化物的直接图案化生长方法

摘要

本发明题为“具有预定宽度的原子层金属二硫属元素化物的直接图案化生长方法”。本发明提供了一种生长金属二硫属元素化物原子层的图案的方法,该方法包括提供基底;在基底上提供碳纳米结构的对准图案;提供与碳纳米结构的图案的第一部分接触的第一金属部分和与碳纳米结构的图案的第二部分接触的第二金属部分;在基底和碳纳米结构的图案上沉积盐层;电阻加热碳纳米结构的图案以从基底去除碳纳米结构的图案和沉积在碳纳米结构的图案上的盐,其中从基底去除碳纳米结构的图案和沉积在碳纳米结构的图案上的盐在基底上提供盐图案;以及在盐图案上生长金属二硫属元素化物原子层,其中金属二硫属元素化物原子层以对准的图案提供,该对准的图案均具有预定宽度。本发明还公开了根据本公开的方法制备的金属二硫属元素化物原子层的图案。

著录项

  • 公开/公告号CN111640648A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-09-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 本田技研工业株式会社;

    申请/专利号CN202010092018.4

  • 发明设计人 阿韦季克·哈鲁特云岩;

    申请日2020-02-14

  • 分类号H01L21/02(20060101);

  • 代理机构11256 北京市金杜律师事务所;

  • 代理人王茂华

  • 地址 日本东京

  • 入库时间 2023-06-19 08:11:16

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-08-25

    授权

    发明专利权授予

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