公开/公告号CN111640648A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-09-08
原文格式PDF
申请/专利权人 本田技研工业株式会社;
申请/专利号CN202010092018.4
发明设计人 阿韦季克·哈鲁特云岩;
申请日2020-02-14
分类号H01L21/02(20060101);
代理机构11256 北京市金杜律师事务所;
代理人王茂华
地址 日本东京
入库时间 2023-06-19 08:11:16
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2023-08-25
授权
发明专利权授予
机译: 具有预定宽度的原子层金属二巯基甲硅藻的直接图案化的方法
机译: 具有预定宽度的原子层金属二卤化物的直接图案生长方法
机译: -具有预先确定的宽度的原子层金属二硫化二氢直接图案生长的方法