首页> 外国专利> Metal contamination prevention method and metal contamination prevention apparatus, and substrate processing method and substrate processing apparatus using them

Metal contamination prevention method and metal contamination prevention apparatus, and substrate processing method and substrate processing apparatus using them

机译:防止金属污染的方法和防止金属污染的装置,以及使用它们的基板处理方法和基板处理装置

摘要

A metal contamination preventing method to be performed prior to using a metal component coated with a passivation film formed of chromium oxide includes generating chromium nitrate by supplying a nitric acid to the passivation film covering a surface of the metal component, and reacting the chromium oxide with the nitric acid and removing chromium from the passivation film by evaporating the chromium nitrate.
机译:在使用涂覆有由氧化铬形成的钝化膜的金属成分之前执行的防止金属污染的方法包括:通过向覆盖金属成分的表面的钝化膜提供硝酸来生成硝酸铬,并使氧化铬与硝酸,并通过蒸发硝酸铬除去钝化膜中的铬。

著录项

  • 公开/公告号JP6615009B2

    专利类型

  • 公开/公告日2019-12-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 東京エレクトロン株式会社;

    申请/专利号JP20160042035

  • 发明设计人 小池 悟;田中 恵一;

    申请日2016-03-04

  • 分类号C23G5;C23G1/02;B01J4;F17D1/02;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 11:32:02

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号