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Super junction MOS bipolar transistor having drain gaps

机译:具有漏极间隙的超结MOS双极晶体管

摘要

Methods and designs are provided for a vertical power semiconductor switch having an IGBT-with-built-in-diode bottom-side structure combined with a SJMOS topside structure in such a way as to provide fast switching with low switching losses (MOSFET), low on-resistance at low currents (SJMOS), low on-resistance at high currents (IGBT), and high current-density capability (IGBT).
机译:提供了一种用于垂直功率半导体开关的方法和设计,其具有内置二极管的IGBT底侧结构与SJMOS顶侧结构相结合,以提供具有低开关损耗(MOSFET),低功耗的快速开关低电流时的导通电阻(SJMOS),高电流时的低导通电阻(IGBT)和高电流密度能力(IGBT)。

著录项

  • 公开/公告号US10580884B2

    专利类型

  • 公开/公告日2020-03-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 D3 SEMICONDUCTOR LLC;

    申请/专利号US201815912400

  • 发明设计人 THOMAS E. HARRINGTON III;ZHIJUN QU;

    申请日2018-03-05

  • 分类号H01L29/73;H01L29/06;H01L29/08;H01L29/66;H01L29/78;H01L39/22;H01L39/14;H01L29/739;H01L21/02;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 11:26:37

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