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GAN BASED HEMT DEVICE RELAXED BUFFER STRUCTURE ON SILICON

机译:基于GAN的HEMT器件在硅上的缓冲结构

摘要

An HEMT semiconductor structure is disclosed. The semiconductor structure includes a substrate, a GaN layer above the substrate, a first TDD reducing structure above the substrate and a polarization layer above the GaN layer.
机译:公开了一种HEMT半导体结构。该半导体结构包括衬底,在衬底上方的GaN层,在衬底上方的第一TDD减少结构以及在GaN层上方的偏振层。

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