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FULLY DEPLETED SEMICONDUCTOR-ON-INSULATOR TRANSISTORS WITH DIFFERENT BURIED DIELECTRIC LAYER CHARGES AND DIFFERENT THRESHOLD VOLTAGES

机译:带有不同埋入电介质层电荷和不同阈值电压的全耗尽型绝缘体上半导体晶体管

摘要

According to embodiments of the present invention, a semiconductor device includes a first transistor located on a first fixed charge dielectric layer and a second transistor located on a second fixed charge dielectric layer. The first fixed charge dielectric layer and the second fixed charge dielectric layer are differently charged such that the first transistor and the second transistor have different threshold voltages.
机译:根据本发明的实施例,一种半导体器件包括位于第一固定电荷电介质层上的第一晶体管和位于第二固定电荷电介质层上的第二晶体管。第一固定电荷电介质层和第二固定电荷电介质层被不同地充电,使得第一晶体管和第二晶体管具有不同的阈值电压。

著录项

  • 公开/公告号US2020083253A1

    专利类型

  • 公开/公告日2020-03-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION;

    申请/专利号US201816126212

  • 发明设计人 KANGGUO CHENG;SHAWN P. FETTEROLF;

    申请日2018-09-10

  • 分类号H01L27/12;H01L29/06;H01L21/84;H01L21/762;H01L21/3105;H01L21/02;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 11:24:43

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