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HYBRID DESIGN LAYOUT TO IDENTIFY OPTICAL PROXIMITY CORRECTION-RELATED SYSTEMATIC DEFECTS

机译:混合设计布局以识别与光学邻近度相关的系统缺陷

摘要

Defects can be identified using a hybrid design layout that includes a printable layer and a non-printed layer. The hybrid design layout can be generated by incorporating at least a portion of the non-printable layer layout with the printable layer layout. Defects can be identified using optical or scanning electron beam images.
机译:可以使用包括可印刷层和非印刷层的混合设计布局来识别缺陷。可以通过将不可印刷层布局的至少一部分与可印刷层布局合并来生成混合设计布局。可以使用光学或扫描电子束图像识别缺陷。

著录项

  • 公开/公告号US2019392111A1

    专利类型

  • 公开/公告日2019-12-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 KLA-TENCOR CORPORATION;

    申请/专利号US201816200060

  • 发明设计人 ALLEN PARK;ANKIT JAIN;

    申请日2018-11-26

  • 分类号G06F17/50;G03F1/36;G03F7/20;G03F1/70;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 11:22:15

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