首页> 外国专利> Double gate metal-oxide-semiconductor field-effect transistor

Double gate metal-oxide-semiconductor field-effect transistor

机译:双栅金属氧化物半导体场效应晶体管

摘要

A double-gate metal-oxide semiconductor field-effect transistor (MOSFET) includes a channel region, a drain, and a MOSFET having a source, a first gate formed close to the channel region, a drain extension region formed close to the drain, and the drain And a second gate formed close to the extended area.
机译:双栅金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)包括沟道区,漏极和MOSFET,MOSFET的源极,靠近沟道区的第一栅极,靠近漏极的漏极延伸区,漏极和第二栅极形成在扩展区域附近。

著录项

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号